等离子清洗机
等离子清洗机 DH-CL-P100
干法等离子清洗与表面活化，适合镀膜、点胶前处理。
- 腔体容积
- 100 L
- 射频功率
- 0–600 W
- 频率
- 13.56 MHz
- 气体
- O₂ / Ar / N₂ / H₂
DH-CL-P100
01
干法无残留
不使用溶剂与水，处理后无需干燥，直接进入下一道工序。
02
提升表面能
处理后接触角可降到 20° 以下，胶黏剂与涂层附着力明显提升。
03
处理均匀
射频电场加旋转载物台，复杂形状工件表面处理一致。
04
工艺可配方化
气体种类、流量、功率与时间组合存为配方，换产品直接调用。
Spécifications
Paramètres techniques
| 容积 | 100 L |
|---|---|
| 材质 | SUS 304 + 石英观察窗 |
| 载物台 | 旋转式，转速 0–20 rpm |
| 功率 | 0–600 W |
|---|---|
| 频率 | 13.56 MHz |
| 匹配方式 | 自动阻抗匹配 |
| 气路数量 | 3 路（可扩展） |
|---|---|
| 气体种类 | O₂ / Ar / N₂ / H₂ |
| 极限真空 | 10 Pa |
|---|
| 控制方式 | PLC + 触摸屏 |
|---|---|
| 配方存储 | 50 组 |
| 电源 | AC 380 V 三相五线 |
|---|
Vue d'ensemble
等离子在做什么
真空腔内加射频电场，气体被电离成等离子体，其中包含离子、电子与活性自由基。自由基与表面的有机污染物反应，生成挥发性产物被真空泵抽走，表面同时被引入极性基团。
两个效果
- 清洁：去除油膜、脱模剂与氧化层，表面达到分子级洁净
- 活化：引入羟基、羧基等极性基团，表面能提升，接触角下降
典型应用
镀膜前清洗、点胶前活化、引线键合前处理、塑料件印刷前处理。处理后表面能提升，胶黏剂与涂层的附着力通常能提升 30% 以上。
FAQ
Questions fréquentes
Si votre question n'est pas traitée ici, envoyez-la directement — un ingénieur d'application répondra.
处理后能保持多久？
表面能会随时间衰减，通常 4 小时内完成下一道工序效果最好，超过 24 小时需要重新处理。
能清洗重油污吗？
等离子适合去除纳米级有机污染物与氧化层，重油污应先做超声或溶剂清洗。
处理会不会损伤工件？
正确参数下只作用于表面几个分子层。长时间高功率处理可能对聚合物表面造成刻蚀，需要做时间梯度试验。
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